CPS高精度納米粒度分析儀

CPS高精度納米粒度分析儀

CPS高精度納米粒度分析儀有三種型號：DC12000型、 DC18000型 和 DC24000UHR型。CPS納米粒度分析儀是目前世界上分析速度最快、分辨率最高以及靈敏度最好的離心沉降式納米粒度分析儀。它可以分析任何粒度分布介于0.005微米和75微米之間的顆粒，提供比其它粒度分析方法好最高達10倍的分辨率，最小峰值寬度可小至峰值直徑的2%，UHR型可達1%。

產品性能

CPS高精度納米粒度分析儀能夠提供高分辨率準確的分析結果，即使對于使用其它分析方法非常難分析的樣品，CPS依然能夠提供滿意的分析結果。

高分辨率

CPS具有強大的分辨率，粒徑差別在2%以內的窄峰可以被完全分辨出來。

下圖所示樣品包含五種不同的聚苯乙烯標定顆粒，在圖中可以清楚地看到它們完全被分辨出來呈現為五個獨立的粒度峰。

技術優勢

CPS系統性能的基礎是它先進的示差沉降技術。

高轉速：

CPS可以支持的最高轉速為24,000轉/分。對于超細顆粒，其分析速度比其它產品快3倍。使用速度調節技術，可以對粒度分布范圍較廣的樣品進行分析。對于在其它分析儀上很多非常耗時(數小時或更長)的樣品，CPS可以快速得到結果。

高精度標定：

CPS系統使用已知的標定顆粒進行標定，與美國國家標準和技術研究院(NIST)相兼容的標準保證了分析結果的一致性和精確度。使用內標法，也即把已知標定顆粒與待分析樣品相混合，所得的峰值結果可以達到±0.25%的精度。

測量低密度顆粒：

示差沉降法過去一般用于測量密度大于分散介質液體密度的顆粒，CPS開發了一項新的專利技術(US Patent5,786,898)。很多用常規示差沉降法很難或者不可能分析的材料(例如油乳液、蠟乳液、粘性乳液或脂質體)，現在可以方便地使用CPS進行分析，而且精度很高。

速度調節：

CPS開發了一種特殊的圓盤設計使得在分析過程中可以調節圓盤的轉速，而不會對沉降液體產生擾動，轉速可以在20倍范圍內升高或者降低，這樣一來就使得分析的動態范圍幾乎增大了20倍。一般離心式分析儀的動態范圍為40，但是CPS系統的動態范圍可以超過1000。過去很多需要消耗整夜時間而且低精度的測量，現在可以使用示差沉降法快速測量，而得到高精度的結果。

低噪聲光源/檢測頭：

CPS納米粒度分析儀的光學系統和電路經過精心設計以降低信號中的噪聲，信噪比通常為50000左右，低噪聲使得系統

具有很高的靈敏度，可檢測窄峰的重量通常小于0.01微克，這使得對于微克樣品的常規高精度分析變得可行。

CPS系統以合理的價格提供高精度、高動態范圍和高靈敏度的粒度分析解決方案。

標 定

CPS使用的標定顆粒都與美國標準和技術研究院(NIST)的其它標準進行過交叉對比，確保均值、峰寬或者半峰寬等方面的誤差在±2%之內，而且顆粒的團聚性也符合要求。

可選標定顆粒：

直徑小于10微米的標定顆粒通常以懸液的形式保存在水中，當然也可以保存在非水基懸液中。大于10微米可以有三種形態，水基懸液，非水基懸液或者干粉狀態。每一套標定顆粒都有其粒度分析結果和分析證書。

應用實例

PEDOT及其復合材料的粒徑測量

PEDOT是EDOT(3,4-乙撐二氧噻吩單體)的聚合物，PEDOT具有高電導率、高度的環境穩定性、對可見光具有高透過率等特點，廣泛用于光伏、電容器、電致變色、觸摸屏等行業，用來制作抗靜電涂層、 OLED (有機電激發光二極管)、有機薄膜太陽能電池材料、電極材料、電化學生物傳感器等。

PEDOT及其復合材料，比如PEDOT/PSS(聚乙撐二氧噻吩和聚苯乙烯磺酸根陰離子的化學聚合物)的粒度大小和粒度分布與其導電性能相關。CPS納米粒度分析儀可以提供準確穩定的測量分析，有助于最終產品導電性能的評價。

下圖是CPS納米粒度分析儀測定PEDOT/PSS得到的結果，粒徑為0.022微米(儀器使用轉速為24,000轉/分鐘)。

CPS納米粒度儀測量金剛石的粒徑

金剛石微粉是指顆粒度細于36/54微米的金剛石顆粒，金剛石微粉硬度高、耐磨性好。廣泛用于機械、航天、光學儀器、玻璃、陶瓷、電子、石油、地質、軍工工業部門，用于制作PCD(聚晶金剛石)、 PDC(金剛石復合片)、陶瓷結合劑、金屬結合劑、電鍍產品；制作拉絲模、電鍍磨具，陶瓷、金屬結合劑磨具等；制造金剛石樹脂結合劑彈性磨塊等；用于精密機械、光學玻璃、精細陶瓷、寶石及半導體等產品的研磨拋光。

CPS納米粒度分析儀測量金剛石微粉的粒徑，可提供更精確更穩定的測量結果，有效控制產品的質量。

下圖是CPS納米粒度儀測得的兩個不同粒徑的金剛石樣品的疊加圖，藍色曲線是粒徑為0.278微米的金剛石，紅色曲線是粒徑為0.436微米的金剛石。

二氧化鈦粒度分布分析

二氧化鈦常被用作顏料、防曬霜和增稠劑。因此它有著廣泛的應用，從油漆到食用色素到化妝品和護膚品，因此二氧化鈦的粒徑測量十分重要。例如納米二氧化鈦顆?？梢杂糜诜罆袢橐?，因為它們散射的可見光比用于普通涂料或者顏料中的二氧化鈦顆粒小，同時還能提供紫外線保護。

CMP(化學機械拋光)工藝中磨料顆粒的高精度粒徑表征

隨著半導體工業飛速發展，電子器件尺寸縮小，要求晶片表面平整度達到納米級。CMP工藝作為芯片制造業不可或缺的一個部分，其對于磨料的顆粒粒度表征要求十分重要。CMP過程中使用的磨料顆粒典型尺寸范圍是10-200nm，其顆粒表征要求精確地確定納米級顆粒的尺寸，因此高分辨率納米粒度分析儀是磨料顆粒表征的完美解決方案。

磨料對CMP工藝起著至關重要的作用！

歡迎選用CPS納米粒度分析儀為您完美解決磨料顆粒問題

測量高純氧化鋁粉

一般來說，含量大于99%的氧化鋁稱為高純氧化鋁，其特性有耐化學腐蝕、耐高溫(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐驟冷驟熱、密度高等。 99.995%高純氧化鋁粉主要用于LED人造藍寶石晶體、高級陶瓷、PDP熒光粉及其他高性能材料；99.99%高純氧化鋁粉用于高壓鈉燈、新型發光材料、特殊陶瓷、高級涂層、三基色、催化劑及其他高性能材料。

粒度是高純氧化鋁粉產品的重要指標，CPS納米粒度分析儀能給您帶來精準穩定的測量結果!

下圖是使用CPS分析儀平行測定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖，表明儀器的重復性極好，樣品的粒徑為0.586微米。

分析氧化鋁粉末時，為防止樣品發生凝聚，需要添加入少量的乙酸。

氧化鋅ZnO粉末

氧化鋅俗稱鋅白，是鋅的一種氧化物。氧化鋅是一種常用的化學添加劑，廣泛地應用于塑料、硅酸鹽制品、合成橡膠、潤滑油、油漆涂料、藥膏、粘合劑、食品、電池、阻燃劑等產品的制作中。氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大，透明度高，有優異的常溫發光性能，在半導體領域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發光二極管等產品中均有應用。氧化鋅粉末還用于制作口腔用品，如牙膏、牙凝膠、牙粉等。

粒度仍然是評價氧化鋅粉末的重要指標！

CPS納米粒度分析儀是您的最佳選擇！

下圖是CPS納米粒度儀測得的氧化鋅粉末的粒徑分布結果，平均粒徑為0.541微米儀器使用轉速為12,000轉/分

病毒顆粒的粒徑分布及疫苗的研發

病毒顆粒的團聚和聚集對病毒治療的臨床安全性和療效有重要影響?？梢詰糜诓《据d體制劑，并且病毒顆粒大小和病毒聚集對基于病毒的生物制品的下游加工、配方和混合有著巨大的影響此款設備在有關工藝優化和產品質量等重要問題上有重要的參考價值。

CPS納米粒度分析儀可以直觀準確的表征病毒顆粒的團聚情況

上圖是CPS納米粒度分析儀測定不同處理方式下病毒顆粒的團聚情況的結果，儀器使用轉速為24,000轉/分可以明顯看到病毒顆粒是否發生團聚現象，儀器分辨率很好

CPS利用差速離心沉降法的原理表征不同處理方式下病毒顆粒的沉降時間，以及病毒顆粒的團聚情況峰值清晰可見，為疫苗的研發生產提供全新的解決方案